聚四氟乙烯薄膜及其制備方法和應(yīng)用技術(shù)，具有高光透過(guò)和疏水功能。類(lèi)聚合物薄膜的發(fā)展可以追溯到20世紀(jì)60年代末，該類(lèi)薄膜可用于低摩擦涂層、介電膜和光學(xué)涂層等領(lǐng)域。其中，氟碳聚合物作為一種重要的高分子材料，具有優(yōu)異的耐腐蝕性、低介電性、自潤(rùn)滑性、低表面能及優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性、不粘、疏水等特點(diǎn)。聚四氟乙烯是一種含有碳和氟的高分子材料，具有較高的機(jī)械強(qiáng)度、熱和化學(xué)穩(wěn)定性以及優(yōu)異的絕緣性能。由于其具有上述優(yōu)點(diǎn)，聚四氟乙烯薄膜被廣泛應(yīng)用于許多領(lǐng)域，如：建筑窗的防污染涂層、疏水面料等。但是，由于聚四氟乙烯薄膜具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性，使其不溶于任何溶劑和其他材料的附著力較差，通常用于制備薄膜的方法，如旋轉(zhuǎn)噴涂法，很難應(yīng)用于制備聚四氟乙烯薄膜。為此，研究人員開(kāi)始了大量的工作來(lái)解決這個(gè)問(wèn)題。目前，已經(jīng)發(fā)展了許多用于制備聚四氟乙烯薄膜的CVD和PVD技術(shù)，如磁控濺射、激光燒蝕、離子束和PECVD，是目前合成這種薄膜常用的方法。其中，磁控濺射技術(shù)具有低溫沉積、附著力好、沉積率高、化學(xué)成分可調(diào)等諸多優(yōu)點(diǎn)。早在1852年，英國(guó)W.Grove就在放電中觀察到從陰及上飛濺出來(lái)的物質(zhì)就被污染在管壁上。自1870年以來(lái)，人們一直在使用這種現(xiàn)象來(lái)制備薄膜。飛濺技術(shù)被稱(chēng)為高速、低溫飛濺技術(shù)，廣泛應(yīng)用于電力、機(jī)械行業(yè)，其工藝簡(jiǎn)單，節(jié)省時(shí)間，環(huán)境友好，薄膜結(jié)構(gòu)對(duì)大多數(shù)基礎(chǔ)附著力都是一致的。磁控飛濺法是在20世紀(jì)70年代，在射頻飛濺的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的一種飛濺涂層法。在射頻飛濺裝置的基礎(chǔ)上，電及結(jié)構(gòu)得到了改 善，通常是在靶的陰及上。